Die Unternehmen Zeiss in Oberkochen und Trumpf in Ditzingen wurden mit dem Deutschen Zukunftspreis 2020 des Bundespräsidenten ausgezeichnet. Wirtschaftsministerin Nicole Hoffmeister-Kraut hat den Preisträgern gratuliert.
Wirtschaftsministerin Dr. Nicole Hoffmeister-Kraut hat den Unternehmen Extern: Zeiss (Öffnet in neuem Fenster) in Oberkochen und Extern: Trumpf (Öffnet in neuem Fenster) in Ditzingen anlässlich der Auszeichnung mit dem Extern: Deutschen Zukunftspreis 2020 (Öffnet in neuem Fenster) des Bundespräsidenten gratuliert. „Zeiss und Trumpf ist mit ihrer hervorragenden Entwicklungsarbeit gemeinsam mit dem niederländischen Unternehmen ASML und vielen weiteren Partnern ein entscheidender Fortschritt in der Herstellung moderner Mikrochips gelungen. Sie haben damit eine wichtige Hürde auf dem Weg zur schnelleren Verarbeitung großer Datenmengen bei der Anwendung Künstlicher Intelligenz genommen. Die Auszeichnung mit dem Zukunftspreis ist ein Beleg für die herausragende Innovationskraft der baden-württembergischen Industrie und der wirtschaftsnahen Forschungseinrichtungen“, sagte die Ministerin heute. Das Unternehmen Zeiss arbeitet eng mit dem Extern: Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS) (Öffnet in neuem Fenster) zusammen.
Führend auf dem Weltmarkt für Lithographie-Geräte
Neue Anwendungen der Informationstechnik und Systeme mit künstlicher Intelligenz erzeugen immer mehr Daten, die gleichzeitig immer schneller verarbeitet werden müssen. Hierfür sind Mikrochips erforderlich, deren Leistungsfähigkeit weit über das bisher Mögliche hinausreicht – und die sich mit herkömmlicher Technik nicht herstellen lassen. Diese Hürde haben die Preisträger zusammen mit ihren Partnern überwunden. Mit der Entwicklung der EUV-Lithographie – einer innovativen Technologie, die auf extrem ultraviolettem Licht beziehungsweise Licht mit einer extrem kurzen Wellenlänge basiert – sind die Unternehmen auf dem Weltmarkt für Lithographie-Geräte führend.
EUV-Lithographie basiert auf Spiegeln
Gegenüber der bisher in der Chipfertigung etablierten optischen Lithographie lassen sich mit der EUV-Lithographie wesentlich kleinere Strukturen erzeugen, in der Größenordnung von wenigen Nanometern (millionstel Millimetern) – das entspricht etwa einem Zehntausendstel der Dicke eines menschlichen Haars. Dazu mussten die Preisträger und ihre Partner die Grenzen des technisch Machbaren drastisch verschieben – was den Entwicklern unter anderem durch eine neuartige Hochleistungsoptik mit höchstpräzisen Spiegeln von Zeiss und einer Lasertechnik der Extraklasse von Trumpf gelang. Zu einem Gesamtsystem integriert werden die einzelnen Bausteine beim niederländischen Unternehmen ASML, einem führenden Hersteller von Lithographie-Anlagen für die Chipproduktion.
Im Gegensatz zur klassischen optischen Lithographie basiert das EUV-Abbildungssystem von Zeiss nicht auf Linsen, sondern auf Spiegeln. Diese hochpräzisen Spiegel aus Oberkochen können einen Durchmesser von bis zu einem Meter haben und erfordern Krümmungsgenauigkeiten im Nanometer-Bereich. Um diese Spiegel vermessen zu können, werden individuell gefertigte hochgenaue „Computer Generierte Hologramme“ (CGH) benötigt, die am Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS) in einer einzigartigen Technologie hergestellt werden. Mit modernstem Equipment wie Elektronenstrahlschreibern sowie engagierten Experten ist es dort möglich, auch sehr große Quarzsubstrate mit Strukturgrößen im Bereich unter 100 Nanometer zu versehen. Dies wiederum ermöglicht es Zeiss, Spiegel verschiedenster Geometrien mit der erforderlichen Präzision zu vermessen. Das wirtschaftsnahe Forschungsinstitut IMS CHIPS ist ein Mitglied der Extern: Innovationsallianz Baden-Württemberg (innBW) (Öffnet in neuem Fenster) und ist somit einer der Schlüsselpartner von Zeiss.
Extern: Deutscher Zukunftspreis (Öffnet in neuem Fenster)
Extern: Innovationsallianz Baden-Württemberg innBW (Öffnet in neuem Fenster)
